超純度的表面清潔

在工業(yè)生產(chǎn)過程中對(duì)電子元件、光學(xué)部件、機(jī)械零件、高分子材料等表面的超純度清洗，以消除極微小污垢顆粒，常常是一道非常關(guān)鍵的工藝。

傳統(tǒng)的清洗方式大多為濕法清洗，隨著現(xiàn)代高科技的不斷發(fā)展這種清洗方式已暴露出其致命的缺陷，即清洗干燥以后的清洗劑殘余和微小顆粒會(huì)附著在表面，已經(jīng)不能滿足現(xiàn)代高科技工藝的需求。

由于氣體對(duì)微小縫隙的滲透力遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于液體，對(duì)于復(fù)雜形態(tài)的物體同樣可以得到徹底清洗的效果。

等離子清晰過程中起決定性的因素是無論常壓狀態(tài)，還是真空狀態(tài)，即使在室溫的條件下，等離子體都會(huì)和有機(jī)污染物產(chǎn)生反應(yīng)，分解成水和二氧化碳等分子，并具有良好的揮發(fā)性。